Technologie – Forschungsanlage
CERAMIS®-Forschungsanlage im Forschungs- und Entwicklungszentrum Neuhausen (CH)
Die SiOx-Beschichtungstechnologie wurde im konzerneigenen Forschungs- und Entwicklungszentrum in Neuhausen (CH) entwickelt.
Seit 1990 leistet die Pilotanlage in Neuhausen kontinuierlich entscheidende Beiträge zu Qualität und Eigenschaften der CERAMIS®-Filme, zum Beispiel in Bezug auf
- die optischen Eigenschaften
- die Plasmavorbehandlung für die ausgezeichnete SiOx-Haftung auf dem Substrat
- die Stabilität des Beschichtungsprozesses
- die gute Weiterverarbeitbarkeit der CERAMIS®-Filme
Durch die enge Zusammenarbeit mit der CERAMIS®-Produktion in Kreuzlingen können die neuesten Entwicklungen dort direkt umgesetzt werden.
